真空靶磁控溅射纳米材料制备系统-太阳能研究部

部长介绍

李灿院士

现任中国科学院大连化学物理研究所研究员、洁净能源国家实验室主任，2003年当选中国科学院院士。中国科学院大连化学物理研究所和日本东京工业大学联合培养理学博士。曾先后在比利时新鲁汶大学、美国西北大学、英国利物浦大学……

室主任，2003年当选中国科学院院士。中国科学院大连化学物理研究所和日本东京工业大学联合培养理学博士。曾先后在比利时新鲁汶大学、美国西北大学、英国利物浦大学……

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实验设备

真空靶磁控溅射纳米材料制备系统

发布人：管理员发布时间：2014-06-04 返回首页

磁控溅射技术作为一种常用的薄膜制备手段，沉积的薄膜具有化学成分容易控制、膜基结合力强等优点，具备大规模产业化的潜力。根据磁控溅射技术的原理，采用直流或者射频溅射方式几乎任何纯金属材料、大多数半导体以及陶瓷材料都能够被溅射成膜。利用磁控溅射镀膜设备，可制备各种单层膜、多层膜包括金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜或者其它化学反应膜。使用该设备完全可以满足金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其它化学反应膜的制备需求。当前使用该设备已经制备数种半导体薄膜材料，均得到了致密、均一的薄膜。薄膜材料的成功制备将会有效推动下一步对于材料的光电转化研究，从而探索新型高效的光电转化电极材料用于太阳能-化学能的转化利用。