电浆辅助原子沉积系统-太阳能研究部

部长介绍

李灿院士

现任中国科学院大连化学物理研究所研究员、洁净能源国家实验室主任，2003年当选中国科学院院士。中国科学院大连化学物理研究所和日本东京工业大学联合培养理学博士。曾先后在比利时新鲁汶大学、美国西北大学、英国利物浦大学……

室主任，2003年当选中国科学院院士。中国科学院大连化学物理研究所和日本东京工业大学联合培养理学博士。曾先后在比利时新鲁汶大学、美国西北大学、英国利物浦大学……

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电浆辅助原子沉积系统

发布人：管理员发布时间：2016-07-15 返回首页

　　台湾矽基科技股份有限公司出品，电浆辅助原子沉积系统。原子外延生长技术(Atomic Layer Epitaxy)是以气-固相化学反应，使气相金属先驱物与载体表面官能基键结(主要是共价键)，而达到载体表面饱和状态的一种反应机制，又称为ALCVD(Atomic Layer CVD)或ALD(Atomic Layer Depostion)。和众所熟悉的化学蒸镀法(Chemical VaporDepo- stion,CVD)最大的不同点，是ALD 法是应用序列性自身控制机制(Sequential Self-limiting Mechanism)，达到基材(载体)表面均一的薄膜成长技术，而非CVD 法中需藉由精密的制程操控来达到。可以用于制备材料与组件之封装与阻水阻气层(Al2O3))取代ITO的透明导电材料ZnO:Al光学膜，硅纳米晶体表面的悬垂键(表面包覆)在GaN表面沉积光子晶体结构(TiO₂/Al₂O₃)。